我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù)，根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學鍍膜材料主要應(yīng)用於：半導體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面改性）等行業(yè)，品質(zhì)達到國際較早進水準，填補了我國靶材在中、高端製造領(lǐng)域應(yīng)用的空白。