詳細介紹 光學鍍膜機配置有扇形多片夾具或拱形單工件盤，可鍍制層數較多的短波通、長波通、減反射膜、濾光片等應用于光學鏡頭或光學儀器上的視窗玻璃或分光元件，利用人機界面觸摸屏+PLC與全自動晶振膜厚儀構成全自動控制系統(tǒng)，可以實現參數錄入、過程監(jiān)控及數據存儲等功能，可設定工藝流程并自動執(zhí)行，使鍍膜膜層重復性、光學性能穩(wěn)定性有質的提高，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色、光學性能不一致等問題。 應用：特別適用于光學鏡頭、電子產品、亞克力、玻璃、燈具、手機視窗、眼鏡、舞臺燈光等，可鍍制增透膜、濾光片、幻彩、紅五彩、紅、黃、綠、藍等七彩顏色。 全自動光學鍍膜設備參數說明 設備型號 GXW-1600A GX-900A GX-1100A GX-1200A GX-13500A 真空室尺寸 1600X1000 1050×1200 1100×1200 1200×1450 1350×1500 制膜種類 光學增透膜、減反射膜（AR）、寬帶增透、單點增透、截止濾光片、七彩裝飾功能膜等。 工件夾具 拱型四片裝夾、拱型單工件盤公轉、三工件盤行星公自轉、12軸公自轉（臥式） 真空室結構 立式前開門、臥式前開門（304不繡鋼）、后置真空系統(tǒng) 真空系統(tǒng) 滑閥泵（旋片泵）＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)） 加熱系統(tǒng) 發(fā)熱管上加熱方式，PID控制，較高溫度350度 工作氣體系統(tǒng) 質量流量控制儀＋電磁閥 電子槍 電子槍四圓形坩堝加一個U形坩堝，高壓4KV-8KV可調，可自由選擇三角波、正弦波、方波掃描電動定位。 電阻蒸發(fā)源 2組電阻蒸發(fā)源 離子源 功率2KW，陽極電流較大6A。雙燈絲（自動切換）提高附著力、膜層密度、穩(wěn)定折射率。（霍爾源） 晶振膜厚儀 由美國產晶振膜厚儀SQC-310與PLC構成全自動控制抽真空及電子束自動蒸發(fā)系統(tǒng),實現設備的全自動控制 極限真空 8×10－4pa（空載、凈室） 抽氣時間 空載大氣抽至5×10－3pa小于15分鐘 控制方式 手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋PLC 備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做