一、濺射準(zhǔn)備

保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。 為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出，達(dá)到工藝所要求的真空度。 暗區(qū)屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時(shí)我們建議采用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時(shí)用壓縮空氣清除腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過(guò)的沙紙輕輕的對(duì)表面進(jìn)行拋光。紗紙拋光后, 再用酒精，丙酮和去離子水清洗，同時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行輔助清潔。 高展金屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋包裝, 
內(nèi)置防潮劑。使用靶材時(shí)請(qǐng)不要用手直接接觸靶材。注意：使用靶材時(shí)請(qǐng)配帶干凈而且不會(huì)起絨的保護(hù)手套，避免用手直接接觸靶材

二、靶材清潔

靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。 
金屬靶材可以通過(guò)四步清潔，

靠前步用在丙酮中浸泡過(guò)的無(wú)絨軟布清潔；

第二步與靠前步類似用酒精清潔；

第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過(guò)后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。 
氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無(wú)絨布”進(jìn)行清潔。

第四步在清除完有污垢的區(qū)域后，再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材， 以除去所有可能在濺射系統(tǒng)中會(huì)造成起弧的雜質(zhì)微粒